特許
J-GLOBAL ID：200903016706845819
ナノインプリント装置及びナノインプリント方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-129979
公開番号（公開出願番号）：特開2007-305647
出願日： 2006年05月09日
公開日（公表日）： 2007年11月22日
要約：
【課題】型と被転写基板との平行度を考慮しながら正確な位置合わせを行うことができると共にスループットの向上化を図ること。【解決手段】第1のアライメントマークが形成された被転写基板3を保持する第1の保持台10と、第2のアライメントマーク及び凹凸パターンが形成された型2を保持する第2の保持台13と、両保持台をそれぞれ独立に変位可能な変位機構25と、両アライメントマークに照明光を照射すると共に該照明光の照射によって得られた両マークの濃淡像をそれぞれ観察するアライメント光学系6と、その観察結果に基づいて両アライメントマークの相対位置を算出して位置合わさせると共に、位置合わせ後、型を被転写基板に押し付けるように変位機構を制御する制御装置9と、レジスト膜を硬化させる光Lを照射する光照射装置8とを備え、アライメント光学系が、光照射装置が照射する光の光路外に配置されているナノインプリント装置1を提供する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
表面に凹凸パターンが形成された型を被転写基板に押し付けて、凹凸パターンを被転写基板の表面に塗布されたレジスト膜に転写するナノインプリント装置であって、
濃淡像を形成する第1のアライメントマークが表面上に形成された前記被転写基板を保持する第1の保持台と、
濃淡像を形成する第2のアライメントマーク及び前記凹凸パターンが表面上に形成された前記型を、該凹凸パターンが前記被転写基板の表面に対向するように保持する第2の保持台と、
前記第1の保持台及び前記第2の保持台を、水平面に平行なXY軸及び該XY軸に直交するZ軸方向と、これらXYZ軸回りとにそれぞれ独立に変位可能な変位機構と、
前記第2の保持台の上方に設けられ、該位置から前記第1及び第2のアライメントマークに照明光を照射すると共に、該照明光の照射によって得られた両アライメントマークの前記濃淡像をそれぞれ観察するアライメント光学系と、
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
5F046BA10
, 5F046EA03
, 5F046EA04
, 5F046EA09
, 5F046EB01
, 5F046FA10
出願人引用 (14件)
全件表示
審査官引用 (12件)
全件表示
前のページに戻る
