特許

J-GLOBAL ID：200903016717982753

ポジ型フオトレジスト組成物

発明者： 佐藤 健一郎 ,  青合 利明 ,  河辺 保雅 ,  小久保 忠嘉
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-093199
公開番号（公開出願番号）：特開平6-308724
出願日： 1993年04月20日
公開日（公表日）： 1994年11月04日
要約：

【要約】【目的】 特に半導体デバイス等の製造において、高感度で解像力、現像性、耐熱性に優れたレジストパターンが得られるポジ型フオトレジスト組成物を提供する。【構成】 ポジ型フオトレジスト組成物が、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び下記一般式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする。【化1】

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。【化1】

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027