特許

J-GLOBAL ID：200903016726451922

CVD反応管内ガス流可視化方法

発明者： 松島 政人 ,  元木 健作
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社
代理人 (1件)： 越場 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-187290
公開番号（公開出願番号）：特開平11-021195
出願日： 1997年06月27日
公開日（公表日）： 1999年01月26日
要約：

【要約】【課題】 CVD反応管内のガス流を可視化する。【解決手段】 薄膜の原料ガスの一部であるNH3 およびHClの反応により生ずるNH4Cl粒子をガス流の可視化に利用する。

請求項（抜粋）：

CVD法により基板上に薄膜を成長させる際に、反応管内にNH3 およびHClを同時に供給し、両者が反応して生ずるNH4Cl粒子により反応管内のガス流を可視化する方法において、反応管壁を加熱するヒータにより、反応管壁に付着したNH4Cl粒子を除去することを特徴とする方法。

IPC (5件)：

C30B 25/14 ,  C23C 16/44 ,  C30B 29/40 502 ,  G01P 13/00 ,  H01L 21/205

FI (5件)：

C30B 25/14 ,  C23C 16/44 A ,  C30B 29/40 502 D ,  G01P 13/00 D ,  H01L 21/205