特許
J-GLOBAL ID：200903016726883407
接触回避機構およびそれを用いた画像形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
中村 智廣
, 成瀬 勝夫
, 小泉 雅裕
, 青谷 一雄
, 鳥野 正司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-091403
公開番号（公開出願番号）：特開2006-276176
出願日： 2005年03月28日
公開日（公表日）： 2006年10月12日
要約：
【課題】 一定の方向に沿って移動させることにより取付けおよび取外しが行なわれる着脱ユニットを、その着脱ユニットが取付けられる装置の大型化や複雑化などを招くことがなく、その周辺配置部品と接触させないで安定して移動させることができる接触回避機構等を提供する。【解決手段】 接触回避機構(5)は、着脱ユニット(4)と、この着脱ユニットの取付け了時に一定の方向(A)と交差する方向(B)からその着脱ユニットに押し付けることで位置決めがされる周辺配置部品(14)との間に、その着脱ユニットの取付けおよび取外しの移動時に当該着脱ユニットまたはその周辺配置部品の少なくとも一方を前記一定の方向と交差する方向に変位させて互いに接触する部分が生じない程度に隔てた状態に保持しながら案内する案内部材(50)を設けて構成される。【選択図】 図7
請求項（抜粋）：
一定の方向に沿って移動させることにより取付けおよび取外しが行なわれる着脱ユニットと、この着脱ユニットの取付け時に前記一定の方向と交差する方向からその着脱ユニットに押し付けることで位置決めがされる周辺配置部品との間に、
その着脱ユニットの取付けおよび取外しの移動時に当該着脱ユニットまたはその周辺配置部品の少なくとも一方を前記一定の方向と交差する方向に変位させて互いに接触する部分が生じない程度に隔てた状態に保持しながら案内する案内部材を設けたことを特徴とする接触回避機構。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (23件)：
2H171FA02
, 2H171FA03
, 2H171GA06
, 2H171GA12
, 2H171JA23
, 2H171JA39
, 2H171KA05
, 2H171KA06
, 2H171KA16
, 2H171KA17
, 2H171KA22
, 2H171QA02
, 2H171QA08
, 2H171QB02
, 2H171QB15
, 2H171QB32
, 2H171QC03
, 2H171SA11
, 2H171SA12
, 2H171SA19
, 2H171SA22
, 2H171SA28
, 2H171WA02
出願人引用 (1件)
-
カラ-画像記録装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2000-024495
出願人：松下電器産業株式会社
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