特許

J-GLOBAL ID：200903016731955254

アクティブマトリックス型液晶ディスプレイの製造方法

発明者： 大西 隆 ,  岩村 栄治 ,  山本 正剛 ,  高木 勝寿 ,  吉川 一男
出願人/特許権者： 株式会社神戸製鋼所
代理人 (1件)： 植木 久一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-150024
公開番号（公開出願番号）：特開平8-018060
出願日： 1994年06月30日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：

【要約】【目的】 アクティブマトリックス型液晶ディスプレイにおいて、ゲート絶縁膜部のショート及び絶縁破壊を防止して素子の信頼性を高める。同時に配線膜の比抵抗を小さくし、ゲートバスラインの遅延時間の短縮を図る。【構成】 ?@物理蒸着による配線膜及び電極膜の形成工程(Fe,Co,REMを0.1〜10at%含むAl基合金を用いる)?Aパターニング工程?B陽極酸化工程(陽極酸化膜の厚みを200Å以上とする)

請求項（抜粋）：

基板上に物理蒸着法を適用して薄膜状の配線膜及び電極膜を形成する工程と、前記配線膜及び電極膜をパターニングする工程と、該パターニング工程の後に前記配線膜及び電極膜の一部または全部を陽極酸化する工程とを含む製造工程により、薄膜状の配線膜及びスイッチング素子を備えた液晶ディスプレイを製造するに際し、前記配線膜及び電極膜を、Fe,Coまたは希土類元素のうち少なくとも1種類以上を0.1〜10at%含有するAl基合金で形成し、且つ前記陽極酸化膜の厚みを200Å以上にすることを特徴とするアクティブマトリックス型液晶ディスプレイの製造方法。

IPC (2件)：

H01L 29/786 ,  G02F 1/136 500

FI (2件)：

H01L 29/78 311 A ,  H01L 29/78 311 G