特許
J-GLOBAL ID：200903016738814028
メッキ触媒及びプラスチックメッキ基板の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-127833
公開番号（公開出願番号）：特開2001-303255
出願日： 2000年04月27日
公開日（公表日）： 2001年10月31日
要約：
【要約】【課題】 プラスチック基板表面を予め粗面化し、プラスチック内にメッキ触媒核を混ぜる必要がなく、また強アルカリなどを用いずに比較的扱い易い溶媒を用いてメッキ触媒膜処理が可能で、工数を低減し、メッキ膜とプラスチック基板との密着力を高めたプラスチックメッキ基板の製造方法を提供する。【解決手段】 プラスチック基板1の一方の表面上へ金属微粒子、高分子マトリクス、紫外線硬化剤、そして溶媒を含んだメッキ触媒の薄膜3を形成する工程、プラスチック基板1の裏面側から紫外線を照射してこの基板1と薄膜3の界面付近にある薄膜3のみを硬化する工程、プラスチック基板1をアルコールに浸漬して未硬化の薄膜3を除去して金属微粒子6を露出させてメッキ触媒核を形成する工程、そして無電解メッキ処理を施すメッキ層7を形成する工程からなるプラスチックメッキ基板の製造方法にある。
請求項（抜粋）：
プラスチック基板をメッキする際に使用するメッキ触媒であり、(1)金属微粒子、(2)保護高分子あるいは高分子マトリクス、(3)紫外線硬化剤、そして(4)溶媒を含むことを特徴とするメッキ触媒。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 18/20 A
, C23C 18/28 Z
4K022AA13
, 4K022AA14
, 4K022AA20
, 4K022AA23
, 4K022BA01
, 4K022BA02
, 4K022BA03
, 4K022BA06
, 4K022BA08
, 4K022BA14
, 4K022BA18
, 4K022CA06
, 4K022CA12
, 4K022CA17
, 4K022CA20
, 4K022CA21
, 4K022CA24
, 4K022CA26
