特許
J-GLOBAL ID：200903016776172110
塗布装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
谷 義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-033367
公開番号（公開出願番号）：特開平6-246209
出願日： 1993年02月23日
公開日（公表日）： 1994年09月06日
要約：
【要約】【目的】 直線、曲線のような形状に均一に溶液を被塗布物に均一に塗布することのできる塗布装置を提供する。【構成】 塗布装置は、被塗布物10に高分子溶液を微量排出するためのマイクロピペット11と、このマイクロピペット11に高分子溶液を提供するためのシリンジポンプ5とXYステージ3とを具備する。
請求項（抜粋）：
被塗布物へ液体を塗布する塗布装置において、前記液体を微量排出するための微小ノズルと、該微小ノズルへ前記液体を供給するための微量供給ポンプと前記被塗布物を載せるためのXYステージとを具備したことを特徴とする塗布装置。
IPC (5件)：
B05C 5/00
, B05C 11/10
, B05C 13/00
, G02B 6/12
, G03F 7/16 501
