特許
J-GLOBAL ID：200903016777066284
シリカ系多孔質バルク体及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-047330
公開番号（公開出願番号）：特開2004-256628
出願日： 2003年02月25日
公開日（公表日）： 2004年09月16日
要約：
【課題】ナノスケールの空隙を有し、乾燥焼成プロセスでの亀裂の発生を防ぎ、機械的強度を有するバルク体の作成を可能にする、シリカ系多孔質バルク体及び製造方法を提供する。【解決手段】R1nSiX4-nで表せられる化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂において、(式中R1は、H若しくはFを示し、Xは、加水分解性基を示し、nは0〜2の整数である。)内径が1〜25nmの細孔を体積比25〜80%有する比表面積が150m2/g以上であるシリカ系多孔質バルク体。酸触媒を用いて加水分解縮合を行うシリカ系多孔質バルク体の製造方法。30〜150°Cで乾燥後さらに400°C以上の温度で乾燥するシリカ系多孔質バルク体の製造方法。高分子ゲルをテンプレートとするシリカ系多孔質バルク体の製造方法。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表せられる化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂から主になり、
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
4F074AA89
, 4F074AA90
, 4F074CB34
