特許

J-GLOBAL ID：200903016777191453

リソグラフィック投影装置を走査する鏡像投影系及びこのような系を具えるリソグラフィック装置

発明者： ブラート ヨセフス ヨハネス マリア
出願人/特許権者： コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-527981
公開番号（公開出願番号）：特表2002-503356
出願日： 1998年10月19日
公開日（公表日）： 2002年01月29日
要約：

【要約】ステップ及び走査リソグラフィック装置で使用される鏡像投影系であって、マスクパターン(15)は、円弧形断面を有するEUV照射のビーム(b)によって基板(20)の複数の領域上で繰り返しスキャンされて結像される。6個以上の結像ミラーを有する投影系よりも廉価に製造しやすいこの系は、5個の結像ミラー(5〜9)しか有しないが、良好な開口数及び許容し得る像の環状領域幅を有する。新規の投影系を設けたEUVリソグラフィック投影装置は、6個のミラーの投影系を設けた装置のウェファスループットより約50%高いウェファスループットを有する。さらに、それはコンパクトな構造を有する。

請求項（抜粋）：

マスクに存在するマスクパターンの像をEUV照射ビームによって基板上に 写すステップ及びスキャンリソグラフィック投影装置で使用され、前記ビーム が円弧形断面を有する鏡像投影系において、前記鏡像投影系が5個の結像ミラ ーを有することを特徴とする鏡像投影系。

IPC (3件)：

G02B 17/00 ,  G03F 7/20 503 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G02B 17/00 A ,  G03F 7/20 503 ,  H01L 21/30 531 A