特許

J-GLOBAL ID：200903016779902390

光断層画像化方法、装置およびプログラムならびに光断層画像化システム

発明者： 寺川 賢祐
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (3件)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛 ,  本澤 大樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-342350
公開番号（公開出願番号）：特開2008-151734
出願日： 2006年12月20日
公開日（公表日）： 2008年07月03日
要約：

【課題】光トモグラフィー計測により各深さ位置における反射強度を検出し断層画像を取得するときに、効率的に良好な画質の光断層画像を取得する。【解決手段】光トモグラフィー計測において、干渉光L4を干渉信号として検出し、検出した干渉信号に光源ユニットから出射されるレーザ光のモードホップの情報、又は/及び、スペクトル形状を示す情報、又は/及び、検出される干渉光の瞬時スペクトルを示す情報をパラメータとして有している線形システム行列の演算処理を施すことにより、各深さ位置からの反射強度を取得する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光を射出し、 射出した光を測定光と参照光とに分割し、 分割した前記測定光が測定対象の各深さ位置において反射したときの反射光と前記参照光とを合波し、 合波した前記反射光と前記参照光との干渉光を干渉信号として検出し、 検出した前記干渉信号から各深さ位置の反射強度を線形システム行列を用いて取得し、 取得した前記反射強度を用いて断層画像を生成する ことを特徴とする断層画像処理方法。

IPC (2件)：

G01N 21/17 ,  A61B 10/00

FI (2件)：

G01N21/17 625 ,  A61B10/00 E

Fターム (21件)：

2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE11 ,  2G059FF02 ,  2G059GG01 ,  2G059GG03 ,  2G059GG08 ,  2G059GG09 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2G059MM09 ,  2G059MM10 ,  2G059NN01 ,  2G059NN05 ,  2G059NN06

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 光断層画像化装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-353161   出願人：富士写真フイルム株式会社