特許
J-GLOBAL ID:200903016789115540

洗浄剤組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 秋元 輝雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-163307
公開番号(公開出願番号):特開平6-346098
出願日: 1993年06月08日
公開日(公表日): 1994年12月20日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 洗浄性に優れ、環境汚染が少なく、すすぎ性に優れ、機械金属工業、精密部品組立工業などにおける固体表面に存在する油脂、機械油、切削油、グリース等の汚れ成分を経済的に除去できる水系洗浄剤組成物を開発する。【構成】 成分(A)、(B)及び(C)を必須とする洗浄剤組成物:(A)一般式R1 -O-(R2 -O)m -(R3 -O)n -X[R1 はC1〜8の炭化水素基、R2 及びR3 はそれぞれC2〜4のアルキレン基、Xは水素原子又はC1〜4のアルキル基、mは0〜3、nは0〜3の整数を示す]のアルキレンオキサイド化合物50〜95重量%、(B)水1〜50重量%、(C)一般式R4 N-Y[RはC1〜18の炭化水素基、4つのRのCは1〜18の任意の数を取る。YはOH、NO3 、1/2SO4 、I、Br、Cl又はClO4 を示す]の第四級アンモニウム化合物0.01〜10重量%
請求項(抜粋):
次の成分(A)、(B)及び(C)を必須とする洗浄剤組成物。(A)次の一般式で表されるアルキレンオキサイド化合物 50〜95重量%R1 -O-(R2 -O)m -(R3 -O)n -X[式中、R1 は炭素数1〜8の炭化水素基を示し、R2 及びR3 はそれぞれ炭素数2〜4のアルキレン基を示し、Xは水素原子又は炭素1〜4のアルキル基を示し、mは0〜3、nは0〜3の整数を示す](B)水 1〜50重量%(C)次の一般式で表される第四級アンモニウム化合物 0.01〜10重量%R4 N-Y[式中、Rは炭素数1〜18の炭化水素基を示し、4つのRの炭素数は1〜18のうちで任意の数を取り得る。Yは、OH、NO3 、1/2SO4 、I、Br、Cl及びClO4 の何れかを示す]
IPC (4件):
C11D 7/60 ,  C23G 5/02 ,  C11D 7:26 ,  C11D 7:32

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