プラズマ処理のためのパルス化されたRF電力の供給

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中村稔 (外9名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-581315
公開番号（公開出願番号）：特表2003-532986
出願日： 2001年04月27日
公開日（公表日）： 2003年11月05日
要約：

【要約】プラズマ処理チャンバへのパルス化されたRF電力の供給に関する上記問題を克服するためのシステムおよび方法。チャンバから反射された電力は、一以上の下記技術を使用して低減される:(1)パルス周期内のRF周波数を変化させる;(2)パルス列の前縁においてパルス高さを立ち上げる;(3)パルス信号と共に比較的低いCW信号を同時に送信する;(4)パルス周期内においてローカルマッチングネットワーク内の分路キャパシタンスを迅速にスイッチングする。パルスによってプラズマに供給される電力量は、送信ラインに接続された指向性カプラーに結合された時間平均機構によって測定される。時間平均機構は、前記指向性カプラーに取り付けられた負荷の温度を測定する回路、または前記指向性カプラーに結合されたアナログ積分回路、または前記指向性カプラーに結合されたデジタル積分回路を含むことができる。

請求項（抜粋）：

プラズマにRF電力を供給する方法であって: 周波数および振幅を有するRF発振を生じさせることと; 前記RF発振の周波数を変調させることと; 前記RF発振を増幅することと; 前記RF発振を前記プラズマに伝送することとを含む方法。

IPC (4件)：

H05H 1/46 , H01L 21/3065 , H01L 21/31 , H03H 7/40

FI (4件)：

H05H 1/46 R , H01L 21/31 C , H03H 7/40 , H01L 21/302 101 G

Fターム (13件)：

5F004AA16 , 5F004BB11 , 5F004BD03 , 5F004BD04 , 5F004CA03 , 5F004CA09 , 5F004DA00 , 5F004DA04 , 5F045AA08 , 5F045BB20 , 5F045EH01 , 5F045EH19 , 5F045GB15

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