特許
J-GLOBAL ID:200903016789657946

触媒および触媒担体物質の連続式処理方法および連続式処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 田代 烝治 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-088055
公開番号(公開出願番号):特開2000-288409
出願日: 2000年03月28日
公開日(公表日): 2000年10月17日
要約:
【要約】【課題】均一な品質の触媒または触媒担体物質の粒子を製造し、製造装置の経費を低減し、製造装置の加熱時間および冷却時間を短縮する。【解決手段】触媒または触媒担体物質を装置内において処理する方法において、触媒または触媒担体物質を装置内に導入する間および/または触媒または触媒担体物質を装置から排出する間に物理的および/または化学的条件が変化し、および/または、触媒または触媒担体物質が異なる物理的および/または化学的条件を有する領域(5、6、7)を通過して装置内を移送されるような方法により、連続的に処理を行うことを特徴とする、触媒または触媒担体物質の処理方法である。従来の不連続法に比較すると、この方法は処理の間の冷却時間および加熱時間が短く、製造される物質の質的均一性が高い。
請求項(抜粋):
触媒または触媒担体物質を装置内において処理する方法において、触媒または触媒担体物質を装置内に導入する間および/または触媒または触媒担体物質を装置から排出する間に物理的および/または化学的条件が変化し、および/または、触媒または触媒担体物質が異なる物理的および/または化学的条件を有する領域(5、6、7)を通過して装置内を移送されるような方法により、連続的に処理を行うことを特徴とする、触媒または触媒担体物質の処理方法。

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