特許

J-GLOBAL ID：200903016799380446

ガス流の脱硫方法および該方法に適した吸収剤

発明者： フランス・ヨハン・ヨセフ・ヘラルド・ヤンセン ,  ロナルド・マイヤー
出願人/特許権者： ナムローゼ・フェンノートシャップ・ケーマ
代理人 (1件)： 奥山 尚男 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-027348
公開番号（公開出願番号）：特開平8-266851
出願日： 1996年01月22日
公開日（公表日）： 1996年10月15日
要約：

【要約】【課題】 吸収剤によってガス流から含硫化合物を除去するための流動床方法であって、該吸収剤が実質的に摩損を受けない方法を提供する。【解決手段】 流動床リアクター中でガス流を吸収剤と接触させることよりなり、該吸収剤は、Al2 O3 、TiO2 、ZrO2 、またはこれらの混合物よりなる群から選択される担体上の、Mn、Fe、Co、Ni、CuおよびZnよりなる群から選択される第一金属の少なくとも一つの酸化物と、Cr、MoおよびWよりなる群から選択される第二金属の少なくとも一つの酸化物との組み合わせに基づいており、該吸収剤は粒子形態であることを特徴とするガス流からH2 SおよびCOSのような含硫化合物を除去する方法による。

請求項（抜粋）：

流動床でガス流を吸収剤と接触させることよりなり、該吸収剤は、Al2 O3 、TiO2 、ZrO2 、またはこれらの混合物よりなる群から選択される担体上の、Mn、Fe、Co、Ni、CuおよびZnよりなる群から選択される第一金属の少なくとも一つの酸化物と、Cr、MoおよびWよりなる群から選択される第二金属の少なくとも一つの酸化物との組み合わせに基づいており、該吸収剤は、0.1〜5mmの粒径を有し100〜500m2 /gの比表面積を有する粒子形態であることを特徴とする該ガス流からH2 SおよびCOSのような含硫化合物を除去する方法。

IPC (7件)：

B01D 53/14 ZAB ,  B01D 53/04 ,  B01D 53/12 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/48 ,  B01D 53/52 ,  B01J 20/06 ZAB

FI (7件)：

B01D 53/14 ZAB A ,  B01D 53/04 G ,  B01D 53/12 ,  B01J 20/06 ZAB B ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 121 B ,  B01D 53/34 126

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 特開昭51-013381
  
• 特開昭59-223792
  
• 特開昭59-139932
  
• 特開昭59-166241
  
• 特開昭47-038793
  
• 特開昭49-038889
  
• 特開平4-097904