特許
J-GLOBAL ID：200903016806356289
集束イオンビーム装置とパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
尾川 秀昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-104859
公開番号（公開出願番号）：特開平7-282759
出願日： 1988年09月24日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：
【要約】【目的】 集束イオンビーム装置のイオンガンの振動を、外部からイオンガンへの熱の侵入を阻みつつ有効に防止する。【構成】 真空槽2の側壁の周方向に離間した位置に、イオンガン1に向けて延びる、長さを外部にて調整可能な振動防止用の複数の支持具21を貫設し、該支持具21の内端にて支持面との間に熱絶縁性材料32を挟んで上記イオンガン1を抑えるようにする。
請求項（抜粋）：
真空槽の天井からイオンガンが垂下された集束イオンビーム装置において、真空槽の側壁の周方向に離間した位置に、該側壁内面から上記イオンガンに向けて延びる、長さを外部にて調整可能な振動防止用の複数の支持具を貫設し、上記支持具の内端にて支持面との間に熱絶縁性材料を挟んで上記イオンガンを抑えてなることを特徴とする集束イオンビーム装置
IPC (4件)：
H01J 37/08
, H01J 27/26
, H01J 37/317
, H01L 21/027
