特許
J-GLOBAL ID：200903016812525688
アッシング方法及びその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
清水 守 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-254047
公開番号（公開出願番号）：特開平5-251334
出願日： 1991年10月02日
公開日（公表日）： 1993年09月28日
要約：
【要約】【目的】 アッシングガスによるウエハのアッシングレートの均一性を向上させるために、ウエハの各部分の温度を調節可能として、アッシングレートの制御を行う。【構成】 アッシング装置に、ウエハのアッシングにおけるCOの発光を測光するウエハの外周部に設置した受光素子アレイ5と、ウエハを加熱する加熱装置8と、受光素子アレイ5の信号により加熱装置8に加熱の箇所と加熱の程度を指示する信号を出力する制御装置20とを設け、COの発光強度に応じてウエハの各部分の温度調節を行う。
請求項（抜粋）：
ウエハに施されたレジストをアッシングガスにより除去するアッシング装置において、(a)複数枚のウエハを重なる方向に配置し、チャンバ内に保持する手段と、(b)前記ウエハの外周部に設置され、アッシング時に発光する光の発光強度を測光する受光手段と、(c)前記ウエハの外周部に設置され、加熱箇所および加熱の程度が選定可能な加熱手段と、(d)前記受光手段の信号によりウエハのアッシングレートが均一となるように前記加熱手段の加熱箇所および加熱の程度を制御する制御手段とを具備することを特徴とするアッシング装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G02F 1/35 501
, H01L 21/302
, H01L 21/66
