特許

J-GLOBAL ID：200903016819016169

構造物の清浄化方法並びに防食方法、およびこれらを利用する構造物

発明者： 賞雅 寛而 ,  岡本 孝司 ,  古谷 正裕
出願人/特許権者： 株式会社先端科学技術インキュベーションセンター ,  財団法人電力中央研究所
代理人 (1件)： 稲葉 滋
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2002004226
公開番号（公開出願番号）：WO2002-090008
出願日： 2002年04月26日
公開日（公表日）： 2002年11月14日
要約：

本発明は構造物の表面に付着したスケール等の汚染物を取り除くための清浄化方法およびこれを利用する構造物を提供する。構造物1の表面に放射線触媒5を含む表面層を設け、該構造物の表面に放射線を照射することで該表面層に付着した汚染物質を分解し、および/あるいは、該表面層への汚染物質の付着を抑制する。本発明はまた、構造物の表面に放射線触媒を含む表面層を設け、該構造物の表面に放射線を照射することで該表面の腐食電位を低下させる防食方法に関するものである。

請求項（抜粋）：

構造物の表面に放射線触媒を含む表面層を設け、該構造物の表面に放射線を照射することで該表面層に付着した汚染物質を分解し、および/あるいは、該表面層への汚染物質の付着を抑制することを特徴とする構造物の清浄化方法。

IPC (5件)：

B08B7/00 ,  B01J35/02 ,  G21D1/00 ,  G21F9/00 ,  G21F9/28

FI (6件)：

B08B7/00 ,  B01J35/02 J ,  G21F9/00 A ,  G21F9/28 521C ,  G21D1/00 X ,  G21D1/00 W