特許

J-GLOBAL ID：200903016821834219

液体原料供給装置

発明者： 川口 尚徳 ,  野村 尚生 ,  高村 勝之 ,  赤井 賢二 ,  林 健郎
出願人/特許権者： 東芝セラミツクス株式会社
代理人 (1件)： 田辺 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-193659
公開番号（公開出願番号）：特開平5-015766
出願日： 1991年07月09日
公開日（公表日）： 1993年01月26日
要約：

【要約】【目的】 液体原料を気化させ高濃度の原料ガスを定常的に安定供給できる液体原料供給装置及びその方法を提供すること。【構成】 タンク21から送られる液体原料35の流量を調整する流量調整手段23を設け、流量調整手段23から送られた液体原料35を加熱して気化させる気化手段29を設け、気化した原料の供給状況を監視してその監視結果を基に流量調整手段23及び/又は気化手段29を制御する制御手段を設けた液体原料供給装置。

請求項（抜粋）：

タンクに収容された液体原料を気化させて反応炉に供給するための液体原料供給装置において、タンクから送られる液体原料の流量を調整する流量調整手段と、前記流量調整手段を介して送られてきた液体原料を加熱して気化させる気化手段と、気化した原料の供給流量を検知しながらマスフローコントローラ、前記流量調整手段及び前記気化手段の少くとも一つを制御する制御手段を設けたことを特徴とする液体原料供給装置。

IPC (3件)：

B01J 4/00 103 ,  B01J 7/02 ,  C30B 25/14

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-261531
  
• 特開昭61-254242
  
• 特開平2-261531