特許
J-GLOBAL ID:200903016827012458

石英系光導波路およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大家 邦久 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-247516
公開番号(公開出願番号):特開平7-077620
出願日: 1993年09月08日
公開日(公表日): 1995年03月20日
要約:
【要約】【構成】 テトラエトキシシランと酸素の流量比を変えてプラズマCVD法により形成した、屈折率の異なるSiO2 をコア層とクラッド層とする石英系光導波路、及び原料混合ガスを一定の流量比で供給しプラズマCVD法で形成したSiO2 膜を基板上に堆積してクラッド層を形成し、その上に原料混合ガスの流量比を変えて前記クラッド層より屈折率の大きいSiO2 のコア層を堆積した後、所望のパターンにエッチングし、その上に前記クラッド層と同一の屈折率を有するSiO2 膜のクラッド層を形成する石英系光導波路の製造方法。【効果】 同一種類の原料の混合比を変えるのみで屈折率の異なる層が形成でき、また製造設備が簡略化され、工業的に有利に石英系光導波路を製造できる。
請求項(抜粋):
テトラエトキシシランと酸素の混合比を変えてプラズマCVD法により形成した、屈折率の異なる2種類のSiO2 をコア層およびクラッド層としてなることを特徴とする石英系光導波路。

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