特許

J-GLOBAL ID：200903016827413959

ドライフォトレジスト用フィルム

発明者： 川口 親和 ,  岩崎 裕司
出願人/特許権者： 三菱化学ポリエステルフィルム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-210975
公開番号（公開出願番号）：特開2004-053897
出願日： 2002年07月19日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：

【課題】レジスト塗布時の欠陥がなく、適度な滑り性でレジスト塗布工程適正にも優れ、レジスト解像性やレジストとの離型性に優れたドライフォトレジスト用の支持体を提供する。【解決手段】ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、分子内にフッ素を含有する重合体成分および架橋剤由来の成分を含有する塗布層を有するフィルムであって、前記架橋剤由来の成分の塗布層乾燥固形分中の割合が5〜80重量%であり、塗布層表面の粗さ(Ra)が5〜50nm、摩擦係数が0.20〜0.39であることを特徴とするドライフォトレジスト用フィルム。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、分子内にフッ素を含有する重合体成分および架橋剤由来の成分を含有する塗布層を有するフィルムであって、前記架橋剤由来の成分の塗布層乾燥固形分中の割合が5〜80重量%であり、塗布層表面の粗さ(Ra)が5〜50nm、摩擦係数が0.20〜0.39であることを特徴とするドライフォトレジスト用フィルム。

IPC (3件)：

G03F7/004 ,  G03F7/09 ,  G03F7/11

FI (3件)：

G03F7/004 512 ,  G03F7/09 501 ,  G03F7/11 503

Fターム (11件)：

2H025AA16 ,  2H025AA18 ,  2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025DA19 ,  2H025DA33 ,  2H025DA37

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平2-083546
  
• フォトレジストフィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-330902   出願人：日本合成化学工業株式会社
• 感光性エレメント及び多層配線基板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-048792   出願人：富士写真フイルム株式会社