特許
J-GLOBAL ID:200903016843825906
ペリクルフレーム、および該フレームを用いたフォトリソグラフィー用ペリクル
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
荒井 鐘司
, 河野 尚孝
, 嶋崎 英一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-238470
公開番号(公開出願番号):特開2006-056544
出願日: 2004年08月18日
公開日(公表日): 2006年03月02日
要約:
【課題】 ペリクル膜の張力によるフレームの内側への撓みを防止して露光領域の減少を防止するとともに、寸法精度およびフォトマスク上への貼付位置精度に優れたペリクルを得ることができるフレーム、及び該フレームを用いたフォトリソグラフィー用ペリクルを提供する。【解決手段】 本発明のフレームは、枠体の少なくとも一対の辺において、その中央部が外側凸の円弧形状部、その両側に外側凹の円弧形状部、さらにその外側に直線形状部を有することを特徴とする。外側凹の円弧形状部の半径は、外側凸の円弧形状部の半径の1/3以上の大きさとするのが好ましい。 本発明は、枠体の少なくとも一対の辺長が、400mm以上である大型のフレームに適用してより効果的である。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
枠体の少なくとも一対の辺において、中央部が外側凸の円弧形状部、その両側に外側凹の円弧形状部、さらにその外側に直線形状部を有することを特徴とするペリクルフレーム。
IPC (3件):
B65D 85/86
, G03F 1/14
, H01L 21/027
FI (3件):
B65D85/38 L
, G03F1/14 K
, H01L21/30 502P
Fターム (13件):
2H095BC31
, 2H095BC38
, 3E096AA01
, 3E096BA20
, 3E096BB03
, 3E096CA30
, 3E096CB02
, 3E096DA30
, 3E096DB06
, 3E096EA06X
, 3E096FA03
, 3E096FA20
, 3E096GA04
引用特許:
出願人引用 (5件)
-
特開昭58-219023号公報
-
米国特許第4861402号明細書
-
特公昭63-27707号公報
-
実公昭63-39703号公報
-
大型ペリクル用枠体
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-216069
出願人:旭化成電子株式会社
全件表示
前のページに戻る