特許

J-GLOBAL ID：200903016855179511

感光性組成物

発明者： 中瀬 真 ,  木原 尚子 ,  後河内 透 ,  内藤 卓哉 ,  斎藤 聡
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-235633
公開番号（公開出願番号）：特開平9-080753
出願日： 1995年09月13日
公開日（公表日）： 1997年03月28日
要約：

【要約】【課題】 化学放射線に対して高い感度及び高解像性を有するとともに、十分なドライエッチング耐性を備え、かつパターン形成の工程を通じて、環境雰囲気に対する耐性を有する感光性組成物を提供する。【解決手段】 下記化1に示す一般式(1)で表わされる化合物と、化学放射線の照射によって酸を発生する化合物とを含有することを特徴とする感光性組成物である。【化1】(上記一般式(1)中、Arはベンゼン環または縮合芳香環、Xは2価の有機基、Yは水素原子または1価の有機基、Zは1価の有機基またはハロゲン原子、Rは酸によって分解する置換基、aおよびbは0または正の整数、mおよびnは、m+n=1の関係を満たす0から1までの間の数である。)

請求項（抜粋）：

下記化1に示す一般式(1)で表わされる化合物と、化学放射線の照射によって酸を発生する化合物とを含有することを特徴とする感光性組成物。【化1】(上記一般式(1)中、Arはベンゼン環または縮合芳香環、Xは2価の有機基、Yは水素原子または1価の有機基、Zは1価の有機基またはハロゲン原子、Rは酸によって分解する置換基であり、aおよびbは0または正の整数、mおよびnは、m+n=1の関係を満たす0から1までの間の数である。)

IPC (2件)：

G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R