特許

J-GLOBAL ID：200903016857814508

プラズマ・エッチング・ツール

発明者： マイケル・エドワード・ベイリー ,  ディン・ダン ,  ジェイムス・ジョージ・マイケル ,  ティモシー・エドワード・ネアリ ,  ポール・ウィリアム・パステル ,  シルビア・ローズ・レイベル・トゥスレイ ,  アーサー・クリフォード・ウィンスロー
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 合田 潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-341159
公開番号（公開出願番号）：特開平8-045899
出願日： 1994年10月28日
公開日（公表日）： 1996年02月16日
要約：

【要約】【目的】 エッチング・ツールにおいて、ウェハの全表面にわたるエッチングの均一性および対称性を改善する。【構成】 ウェハ支持ペデスタルの周りに一意的に設計された輪を持つプラズマまたはRIEエッチング・ツールにおいて、輪に隣接する領域に1種類以上のガスを導入することにより、ペデスタルに取付けられたウェハの表面の、輪に隣接する領域にあるフィーチャのエッチング量を制御する。そしてこの領域内のガスの量を制御することにより、エッチングされたフィーチャの壁の傾斜を制御することができる。

請求項（抜粋）：

エッチングされる製品を保持するための電極であって、選択された直径および、予め選択された位置でエッチングされるように上記ウェハを保持する端を持つ表面を有する、上記電極上に取り付けられた環状のペデスタルと、上記ペデスタルに取り付けられた、絶縁材料からなる輪と、上記プラズマの成分ガスを上記ウェハの周縁に導入する手段と、を備え、上記輪が、プラズマと上記ウェハ間のすべての電気力線が上記ウェハの表面に実質的に垂直になるように選択された高さおよび幅を持ち、上記プラズマから分離したイオンの方向が、上記イオンによって上記ウェハのすべての領域に形成されるフィーチャが、上記フィーチャの中心における上記ウェハの表面に垂直な軸に対して実質的に対称になるよう制御されることを特徴とする、プラズマ・エッチング・ツール。

IPC (2件)：

H01L 21/306 ,  C23F 4/00

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭60-057936
  
• 特開昭59-066120
  
• 特開昭63-016625
  
• 特開平1-115122