特許
J-GLOBAL ID：200903016860271710
フォトレジストおよびレジストの検査方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西教 圭一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-006918
公開番号（公開出願番号）：特開平6-215995
出願日： 1993年01月19日
公開日（公表日）： 1994年08月05日
要約：
【要約】【目的】 フォトレジスト塗布後の付着異物および塗布不良箇所を検出する。【構成】 透明導電膜などの被加工体2を介して、ガラス基板などの基板3上に感光性樹脂を含むフォトレジスト1を形成する。フォトレジスト1には、可視光または紫外光によって発光する有機のケイリン光体が混入されている。可視光または紫外光5をフォトレジスト1上に照射すると、フォトレジスト1中に含有されるケイリン光体からケイ光またはリン光の反射光6が発光し、反射光6はカメラ7に入射する。フォトレジスト1上に異物4が付着している場合、フォトレジスト1の検査領域Aのうち領域a1からの反射光6が消失する。このような反射光6の光量の差は、濃淡画像処理によって数値化され、異物4の付着が検知される。
請求項（抜粋）：
可視光または紫外光によって発光する有機のケイリン光体が、ポジ型またはネガ型の感光性樹脂中に混入され、または前記感光性樹脂の層上に塗布されてなることを特徴とするフォトレジスト。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/26 501
H01L 21/30 301 V
, H01L 21/30 361 F
