特許

J-GLOBAL ID：200903016869355363

ガリウム含有廃水の処理装置

発明者： 松本 章 ,  林 一樹
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-185365
公開番号（公開出願番号）：特開2003-001270
出願日： 2001年06月19日
公開日（公表日）： 2003年01月07日
要約：

【要約】【課題】化合物半導体のウエハー製造工場、デバイス製造工場等の研磨工程等から排出されるガリウム含有廃水、あるいは、研磨工程の廃水が貯槽で混合されるガリウム含有廃水を処理して、特に希少かつ有価金属であるガリウムを水酸化物として高濃縮された状態で余すことなく効率的に回収し得るガリウム含有廃水の処理装置を提供する。【解決手段】懸濁物質が含まれるガリウム含有廃水が導入されて懸濁物質を除去する前処理手段と、懸濁物質が除去されたガリウム含有廃水中のガリウムを水酸化物とする水酸化物生成手段と、水酸化物生成手段からの水酸化物含有水が導入されて水酸化物と処理水に分離する固液分離手段とを有することを特徴とするガリウム含有廃水の処理装置。

請求項（抜粋）：

懸濁物質が含まれるガリウム含有廃水が導入されて懸濁物質を除去する前処理手段と、懸濁物質が除去されたガリウム含有廃水中のガリウムを水酸化物とする水酸化物生成手段と、水酸化物生成手段からの水酸化物含有水が導入されて水酸化物と処理水に分離する固液分離手段とを有することを特徴とするガリウム含有廃水の処理装置。

IPC (5件)：

C02F 1/62 ZAB ,  B01D 71/02 ,  C01G 15/00 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/44

FI (5件)：

C02F 1/62 ZAB Z ,  B01D 71/02 ,  C01G 15/00 F ,  C02F 1/28 E ,  C02F 1/44 E

Fターム (35件)：

4D006GA03 ,  4D006GA04 ,  4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA01 ,  4D006HA21 ,  4D006HA41 ,  4D006HA61 ,  4D006KA72 ,  4D006KB12 ,  4D006KD03 ,  4D006MB19 ,  4D006MC03 ,  4D006PA03 ,  4D006PB08 ,  4D006PB27 ,  4D006PC01 ,  4D024AA04 ,  4D024AB17 ,  4D024BA18 ,  4D024BC02 ,  4D024CA01 ,  4D024DA08 ,  4D024DB05 ,  4D024DB06 ,  4D024DB07 ,  4D024DB20 ,  4D038AA08 ,  4D038AB70 ,  4D038AB79 ,  4D038BA04 ,  4D038BB02 ,  4D038BB06 ,  4D038BB13 ,  4D038BB17

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開昭62-294491
  
• 特開平4-349990
  
• 排煙脱硫排水の処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-279004   出願人：栗田工業株式会社
• 特開平1-249187
  

審査官引用 (3件)

• 特開昭62-294491
  
• 特開平4-349990
  
• 排煙脱硫排水の処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-279004   出願人：栗田工業株式会社