特許

J-GLOBAL ID：200903016876886080

熱処理装置

発明者： 稲田 哲明 ,  井ノ口 泰啓
出願人/特許権者： 国際電気株式会社
代理人 (1件)： 石戸 元 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-060956
公開番号（公開出願番号）：特開平11-260742
出願日： 1998年03月12日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：

【要約】【課題】 処理チャンバから搬送チャンバへの熱の逃げによりウェーハ等の被熱処理物にスリップが生じるという問題点を解決し、スリップフリーの熱処理装置を提供する。【解決手段】 ウェーハ13を熱処理する処理チャンバ1と、ウェーハを処理チャンバ1に搬入するために使用される搬送チャンバ5とを備え、両チャンバ間にウェーハ13を出し入れするための開口部11と該開口部11を開閉するためのゲートバルブ12を備え、開口部11を開けるに際し、処理チャンバ1側の熱が開口部11を通して搬送チャンバ5側に逃げるのを防止するため、予め搬送チャンバ5側の開口部11の付近に加熱されたパージ用のホットN2 ガスを供給するためのホットN2 ガス供給用ガスポート15を備えた。

請求項（抜粋）：

被熱処理物を熱処理する処理チャンバと、前記被熱処理物を処理チャンバに搬入するために使用される搬送チャンバとを備え、前記両チャンバ間に前記被熱処理物を出し入れするための開口部と該開口部を開閉するためのゲートを備えてなる熱処理装置において、前記開口部を開けるに際し、前記処理チャンバ側の熱が前記開口部を通して前記搬送チャンバ側に逃げるのを防止するため、予め前記搬送チャンバ側の開口部の付近に加熱されたパージ用のガスを供給するための手段を備えるようにしたことを特徴とする熱処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/22 501 ,  H01L 21/22 ,  H01L 21/205

FI (3件)：

H01L 21/22 501 D ,  H01L 21/22 501 J ,  H01L 21/205