特許
J-GLOBAL ID：200903016876956631
荷電ビーム描画装置及び荷電ビームの非点収差補正方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-248841
公開番号（公開出願番号）：特開2000-077291
出願日： 1998年09月02日
公開日（公表日）： 2000年03月14日
要約：
【要約】【課題】 偏向中心から見た偏向領域内における非点補正値が最大となる方向に制約を受けることなく非点収差が可能な荷電ビーム描画装置及び方法を提供する。【解決手段】 非点補正コイル12の非点補正値と静電型偏向器4の非点収差補正電圧との関係を示す補正感度b1、b2、c1、c2と、非点補正コイル12の非点補正値と偏向位置との関係を示す係数a11、a12、a21、a22と、偏向中心から見た偏向領域内における非点補正値が最大となる方向を示す角度θ1、θ2とを用いて、偏向制御手段10のゲイン補正値±K1sin θ1、±K1cos θ1、±K2sin θ2、±K2cos θ2を求め、偏向位置に応じて非点収差の補正を行う。
請求項（抜粋）：
試料上に荷電ビームを照射して該試料上に所望のパターンを描画する荷電ビーム描画装置において、荷電ビームを試料上の所望の位置に偏向する偏向器と、前記偏向器の動作を制御する偏向制御手段と、試料上の偏向中心における非点収差を補正する非点収差補正手段と、予め測定して得られた前記非点収差補正手段による非点収差補正値と前記偏向器に印加する非点収差補正電圧との関係を示す第1の情報と、予め測定して得られた前記非点収差補正手段による非点収差補正値と前記偏向器によりもたらされる偏向位置との関係を示す第2の情報と、前記第2の情報を用いて得られた偏向中心から見た偏向領域内における非点収差補正値が最大となる方向を示す第3の情報とを格納し、前記第1、第2及び第3の情報を用いて得られたゲイン補正値に基づいて前記偏向制御手段の増幅動作を制御することで非点収差の補正を行う制御手段と、を備えることを特徴とする荷電ビーム描画装置。
Fターム (4件)：
5F056AA01
, 5F056CB11
, 5F056CB29
, 5F056CC02
