特許
J-GLOBAL ID:200903016909517116

反射型マスク

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-185739
公開番号(公開出願番号):特開平7-045499
出願日: 1993年07月28日
公開日(公表日): 1995年02月14日
要約:
【要約】【目的】露光装置の露光時間を短縮する。【構成】基板上に形成されたX線を反射する多層膜1、該多層膜上にX線を吸収しやすい物質からなる吸収体4をパターン状に形成させた非反射部、及び前記多層膜と前記非反射部との間に設けた中間層3で構成された反射型マスクにおいて、前記中間層を、常温で形成した薄膜で構成した。
請求項(抜粋):
基板上に形成されたX線を反射する多層膜、該多層膜上にX線を吸収しやすい物質からなる吸収体をパターン状に形成させた非反射部、及び前記多層膜と前記非反射部との間に設けた中間層で構成された反射型マスクにおいて、前記中間層が、常温で形成した薄膜からなることを特徴とする反射型マスク。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 1/16
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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