特許
J-GLOBAL ID：200903016911230657
エンボス加工法及び該方法で製造したエンボス加工物品
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
松本 研一
, 小倉 博
, 伊藤 信和
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-583164
公開番号（公開出願番号）：特表2004-524196
出願日： 2002年04月19日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：
第一のガラス転移温度Tg1を有するポリマーからなるエンボス加工表面の製造方法は、温度Tembで該表面をエンボス加工し、エンボス加工ポリマー表面の第一のガラス転移温度Tg1を第二のガラス転移温度Tg2に上昇させてTg2>Tembとすることを含んでなる。別の実施形態では、エンボス型からのポリマー表面の脱型を改善する方法は、ポリマーの主鎖にフッ素原子、ケイ素原子又はシロキサンセグメントの1以上を導入することを含む。これらの方法は、フォトレジストの直接パターニング、櫛形電極の製造及び情報記憶媒体の製造に特に適している。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
第一のガラス転移温度(Tg1)を有するポリマー組成物の表面のエンボス加工方法であって、
温度Tembで該表面をエンボス加工し、
エンボス加工時、エンボス加工後又はエンボス加工時とエンボス加工後に、該表面のTg1を変化させて第二のガラス転移温度(Tg2)を与える
ことを含んでなる方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (12件)：
4F209AA13
, 4F209AA15
, 4F209AA40
, 4F209AF01
, 4F209AG01
, 4F209AG05
, 4F209AH35
, 4F209AH79
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PJ08
, 4F209PN09
