特許

J-GLOBAL ID：200903016926864954

干渉測定装置、干渉測定方法、及び光学素子の表面加工方法

発明者： 鈴木 正則 ,  山本 貴広
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 古谷 史旺
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-287068
公開番号（公開出願番号）：特開2002-090112
出願日： 2000年09月21日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
要約：

【要約】【課題】 データ領域と非データ領域との峻別を確実に行うことのできる干渉測定装置及び干渉測定方法を提供する。また、高精度に効率よく光学素子の表面加工を行うことのできる光学素子の表面加工方法を提供する。【解決手段】 被検面からの被検光と参照面からの参照光とが成す干渉光の入射面に配置されその干渉光の輝度分布を検出する受光素子と、被検光と参照光との位相差を変化させる走査手段とを備えた干渉測定装置において、受光素子の出力を参照し、前記変化に応じて入射面の各位置に生じる明暗のコントラストを求め、そのコントラストの入射面における分布に基づいて干渉光が入射するデータ領域と干渉光が入射しない非データ領域とを峻別する。干渉光のコントラストは入射光の輝度に依らず高い一定値をとるので、雑音のコントラストと干渉光のコントラストとの相違は顕著である。したがって、峻別の確実性が高くなる。

請求項（抜粋）：

被検面からの被検光と参照面からの参照光とが成す干渉光の入射面に配置され、かつその干渉光の輝度分布を検出する受光素子と、前記被検光と前記参照光との位相差を変化させる走査手段とを備えた干渉測定装置において、前記走査手段の動作中における前記受光素子の出力を参照し、その動作に応じて前記入射面の各位置に生じる明暗のコントラストを求めるコントラスト取得手段と、前記コントラスト取得手段により求めたコントラストの前記入射面における分布に基づいて、その入射面において前記干渉光が入射するデータ領域と前記干渉光が入射しない非データ領域とを峻別する峻別手段とを備えたことを特徴とする干渉測定装置。

IPC (3件)：

G01B 9/02 ,  G01B 11/24 ,  G01M 11/00

FI (3件)：

G01B 9/02 ,  G01M 11/00 L ,  G01B 11/24 D

Fターム (27件)：

2F064AA09 ,  2F064CC01 ,  2F064CC03 ,  2F064EE05 ,  2F064GG22 ,  2F064GG32 ,  2F064GG38 ,  2F064HH03 ,  2F064JJ01 ,  2F065AA54 ,  2F065DD04 ,  2F065DD09 ,  2F065FF42 ,  2F065FF51 ,  2F065GG01 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL09 ,  2F065LL10 ,  2F065LL32 ,  2F065LL36 ,  2F065QQ05 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ34 ,  2G086FF01