特許
J-GLOBAL ID：200903016940968908
成膜装置および磁気記録媒体の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡田 数彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-367165
公開番号（公開出願番号）：特開平11-189876
出願日： 1997年12月24日
公開日（公表日）： 1999年07月13日
要約：
【要約】【課題】(1)反応室の内壁表面に付着した薄膜からの剥離現象が抑制された成膜装置、および、(2)炭素膜から成る保護層を有し、グライド特性に優れた磁気記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】(1)原料モノマーの分解プロセスを含む成膜装置であって、反応室の内壁表面がケイ素と酸素とを含有する物質または炭素を含有する物質にて構成されている成膜装置、および、(2)非磁性基板上に少なくとも磁性層を形成した後に炭素膜から成る保護層を形成する磁気記録媒体の製造方法において、原料モノマーの分解を含む成膜プロセスにより炭素膜を形成するに当たり、成膜装置として上記の成膜装置を使用する。
請求項（抜粋）：
原料モノマーの分解プロセスを含む成膜装置であって、反応室の内壁表面がケイ素と酸素とを含有する物質または炭素を含有する物質にて構成されていることを特徴とする成膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 16/44 J
, G11B 5/84 B
