特許
J-GLOBAL ID：200903016958386213
非線形光学素子及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宇高 克己
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-240646
公開番号（公開出願番号）：特開平5-053162
出願日： 1991年08月26日
公開日（公表日）： 1993年03月05日
要約：
【要約】【構成】 有機非線形光学材料2の少なくとも光入射側面が、光学的に透明な第1の保護層3で被覆され、更に、この第1の保護層の光入射側面が光学的に透明な第2の保護層4で被覆され、第1の保護層3の厚みが第2の保護層4の厚みよりも小さく、かつ、第2の保護層4の光入射側面が整形されていることを特徴とする非線形光学素子。【効果】 保護層形成材料への溶解によって有機非線形光学材料の結晶表面が侵食されることがなく、長期間安定した入射結合効率を保持できる、保護層付き非線形光学素子及びその製造方法を提供することができる。
請求項（抜粋）：
有機非線形光学材料の表面に、保護層が形成されてなる非線形光学素子において、前記有機非線形光学材料の少なくとも光入射側面が、光学的に透明な第1の保護層で被覆され、更に、この第1の保護層の光入射側面が光学的に透明な第2の保護層で被覆され、前記第1の保護層の厚みが前記第2の保護層の厚みよりも小さく、かつ、前記第2の保護層の光入射側面が整形されていることを特徴とする非線形光学素子。
IPC (6件)：
G02F 1/35 504
, G02B 1/10
, G02B 6/10
, G02B 6/42
, H01S 3/07
, H01S 3/109
