特許
J-GLOBAL ID:200903016966226926

フォトレジスト用オーブン

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): ▲柳▼川 信
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-280142
公開番号(公開出願番号):特開平7-111232
出願日: 1993年10月13日
公開日(公表日): 1995年04月25日
要約:
【要約】【目的】 基板外周部と基板中央部との温度上昇差を解消し、フォトレジストのパターン形状の乱れを防止する。【構成】 フォトレジスト21が塗布された基板20はベーキングチャンバ18内に載置され、加熱プレート1a〜1cによって加熱される。加熱プレート1a〜1cは夫々対応する加熱調節器2a〜2cからなる加熱器2によって夫々独立に加熱制御され、基板20の外周部及び中央部各々の温度上昇が個別に制御される。温度検出器4は温度センサ3で検出した加熱プレート1a〜1c各々の温度を検出信号として加熱フィードバック機構5に出力する。加熱フィードバック機構5は内蔵する加熱プログラムと温度検出器4からの検出信号との偏差を算出し、その偏差に加熱プレート1a〜1i間の熱的結合関係を補正する演算を施して加熱器2に送出し、加熱プレート1a〜1i各々の加熱制御を行う。
請求項(抜粋):
基板製造におけるフォトリソグラフィ工程で用いられるフォトレジスト用オーブンであって、前記基板を少なくとも外周部と中央部とに2分割して加熱するための複数の加熱プレートと、前記複数の加熱プレート各々を独立に温度制御する加熱手段とを有することを特徴とするフォトレジスト用オーブン。
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開平2-260415
  • 特開平2-125610
  • 特開昭63-184330
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