特許
J-GLOBAL ID：200903016975241202
光実装基板及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-168946
公開番号（公開出願番号）：特開平10-020157
出願日： 1996年06月28日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：
【要約】【課題】 シリコン基板に光素子と光ファイバを搭載して光結合する光実装基板では、シリコン基板に形成されるファイバV溝およびその一部に形成されるミラーを高精度かつ高信頼度でしかも高歩留りで形成することが困難である。【解決手段】 シリコン基板11に設けられているオリエンテーションフラット11aと平行または直交する方向に基準V溝15を形成し、この基準V溝15を基準にしてファイバV溝13を形成することで、ファイバV溝13を高精度に形成する。また、ファイバV溝13はその一部の斜面に形成されるミラー14をシリコン基板11の外周方向に向けて延設することで、スピンコート法によりフォトレジストを斜面に好適に塗布でき、高品質のミラーの形成が可能となる。
請求項（抜粋）：
シリコンウェハ等の基板の表面に設けられた電極上に光素子が搭載され、かつこの光素子と光学的に結合される光ファイバが前記基板の表面に形成されたファイバV溝に固定支持され、さらに前記ファイバV溝端の前記電極側が前記光素子と光ファイバとの間で光を反射させるミラー斜面を形成している光実装基板において、前記ファイバV溝は前記ミラー斜面が前記基板の外周方向に向けて延設されていることを特徴とする光実装基板。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
審査官引用 (2件)
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受光モジュール
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-207365
出願人：株式会社リコー
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特開平3-164706
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