特許

J-GLOBAL ID：200903016976304950

パラジウム含有触媒の製造方法およびパラジウム含有触媒並びにそれを用いたα,β-不飽和カルボン酸の製造方法

発明者： 大谷内 健
出願人/特許権者： 三菱レイヨン株式会社
代理人 (3件)： 宮崎 昭夫 ,  伊藤 克博 ,  石橋 政幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-142313
公開番号（公開出願番号）：特開2005-324084
出願日： 2004年05月12日
公開日（公表日）： 2005年11月24日
要約：

【課題】目的物を生産性良く製造可能なパラジウム含有触媒の製造方法およびパラジウム含有触媒並びにそれを用いたα,β-不飽和カルボン酸の製造方法を提供する。【解決手段】酸化状態のパラジウム原子を含むパラジウム化合物を還元する還元工程を少なくとも有するパラジウム含有触媒の製造方法であって、オレフィンとアルデヒドとを別々に又は同時に用いて還元することを特徴とするパラジウム含有触媒の製造方法。また、この方法で製造されたパラジウム含有触媒。また、この方法で製造されたパラジウム含有触媒を用いて、オレフィンまたはα,β-不飽和アルデヒドを分子状酸素により液相酸化するα,β-不飽和カルボン酸の製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸化状態のパラジウム原子を含むパラジウム化合物を還元する還元工程を少なくとも有するパラジウム含有触媒の製造方法であって、オレフィンとアルデヒドとを別々に又は同時に用いて還元することを特徴とするパラジウム含有触媒の製造方法。

IPC (4件)：

B01J23/44 ,  B01J37/16 ,  C07C51/235 ,  C07C57/055

FI (4件)：

B01J23/44 Z ,  B01J37/16 ,  C07C51/235 ,  C07C57/055 B

Fターム (45件)：

4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA08B ,  4G069BA21C ,  4G069BC72A ,  4G069BC72B ,  4G069BE02C ,  4G069BE10C ,  4G069CB07 ,  4G069CB14 ,  4G069CB17 ,  4G069DA08 ,  4G069FA01 ,  4G069FA02 ,  4G069FB14 ,  4G069FB44 ,  4G069FB46 ,  4G069FC04 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA08B ,  4G169BA21C ,  4G169BC72A ,  4G169BC72B ,  4G169BE02C ,  4G169BE10C ,  4G169CB07 ,  4G169CB14 ,  4G169CB17 ,  4G169DA08 ,  4G169FA01 ,  4G169FA02 ,  4G169FB14 ,  4G169FB44 ,  4G169FB46 ,  4G169FC04 ,  4H006AA02 ,  4H006AC46 ,  4H006BA25 ,  4H006BA55 ,  4H006BA81 ,  4H006BE30 ,  4H006BS10 ,  4H039CA65 ,  4H039CC30

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開昭60-155148号公報