特許
J-GLOBAL ID:200903016980390208

改質反応器およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (8件): 三好 秀和 ,  三好 保男 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  栗原 彰 ,  川又 澄雄 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-019121
公開番号(公開出願番号):特開2004-231433
出願日: 2003年01月28日
公開日(公表日): 2004年08月19日
要約:
【課題】改質ガス通路内に改質用触媒を担時させる際に、水素分離膜の損傷を防止する。【解決手段】改質ガス通路1を間に挟んでその一方側に燃焼ガス通路3を、同他方側に水素分離膜5をそれぞれ配置し、水素分離膜5の改質ガス通路1と反対側に水素通路7を配置する。水素分離膜5の改質ガス通路1側には、水素分離膜5に対して所定間隔をおいて保護板31を設ける。保護板31には、水素分離膜5と改質ガス通路1とを連通する複数の貫通孔31aを設ける。改質ガス通路1内のフィン9に触媒を担時させる際に、改質ガス通路1が上下方向を向くよう配置し、この改質ガス通路1に上部から触媒スラリーを流し込む。このとき、燃焼ガス通路3および水素通路7は、改質ガス通路1に対して直交する方向を向くよう設定してあり、上部は側壁板21および27によりそれぞれ閉塞した状態にある。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
原料を改質して水素を発生させる改質反応部と、この改質反応部に隣接して配置され、改質反応部で改質した改質ガス中の水素を透過させて分離する水素分離膜とをそれぞれ備えた改質反応器において、前記水素分離膜の前記改質反応部側に、水素分離膜に対して所定間隔をおいて保護板を配置し、この保護板に、前記水素分離膜と前記改質反応部とを連通する貫通孔を設けたことを特徴とする改質反応器。
IPC (3件):
C01B3/38 ,  B01D53/22 ,  C01B3/56
FI (3件):
C01B3/38 ,  B01D53/22 ,  C01B3/56 Z
Fターム (14件):
4D006GA41 ,  4D006HA41 ,  4D006JA02A ,  4D006JA04Z ,  4D006PB18 ,  4D006PB66 ,  4D006PC80 ,  4G140EA01 ,  4G140EA06 ,  4G140EB37 ,  4G140FA02 ,  4G140FB04 ,  4G140FC01 ,  4G140FE01

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