特許

J-GLOBAL ID：200903016992576099

位相シフタ自動配置方法及び装置

発明者： 茂庭 明美 ,  寺澤 恒男
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-209554
公開番号（公開出願番号）：特開平8-076350
出願日： 1994年09月02日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：

【要約】【目的】マスクパターンへ位相シフタを自動的に配置する際にシフタ配置矛盾箇所を最少にする方法及び装置を提供する。【構成】入力された透光パターンで、位相差を設けるべき近接した透光パターンの全てのペアを抽出し、パターンを結点,近接するパターン関係を結線で表現する無向グラフを考え、この無向グラフの中から一筆書きの閉ループとなる奇数本の結線の集合の全てを抽出し、該閉ループに出現する回数の多い結線から矛盾箇所とする結線を決定し、その結線で結ばれているパターンのペアをシフタ配置矛盾箇所として提示する。

請求項（抜粋）：

与えられた露光用マスクパターンの中から透過光の位相を変える位相シフタを配置すべきパターンを特定する位相シフタ自動配置方法において、前記マスクパターンの形状の入力工程と,所定量以下の間隔で互いに近接して配置されている透光パターンのペアの全てを抽出する近接パターンペア抽出工程と,近接パターンペアに対して2種類の位相を与えるようにシフタを交互に配置した場合にシフタ配置矛盾が生じる近接パターンペアの数を最少とする最少矛盾箇所決定工程と,位相シフタ配置矛盾箇所を表示する表示工程を備えたことを特徴とする位相シフタ自動配置方法。