特許

J-GLOBAL ID：200903016994295739

シリコ-ンゴムラテックスの製造方法

発明者： 山本 直己 ,  柳ケ瀬 昭 ,  岩崎 直史 ,  伊藤 公一
出願人/特許権者： 三菱レイヨン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-010293
公開番号（公開出願番号）：特開平5-194740
出願日： 1992年01月23日
公開日（公表日）： 1993年08月03日
要約：

【要約】【目的】 グラフト重合体の製造に適したポリオルガノシロキサンラテックスであって、乳化剤と酸触媒による着色の悪影響を軽減したポリオルガノシロキサンラテックスの製造方法を提供する。【構成】 オルガノシロキサン、シロキサン系架橋剤及びシロキサン系グラフト交叉剤から成るオルガノシロキサン系混合物、乳化剤及び水からなる混合物を予備攪拌して乳化させたラテックスを、温度60°C以上の酸水溶液に対して、滴下終了時のオルガノシロキサン系混合物/(酸+乳化剤)の重量比が100/2〜12となるように毎分5重量部以下の速度で滴下させて重合することによる、数平均粒子径が0.1μm以下でかつ粒子径の標準偏差が0.07以下であるポリオルガノシロキサンラテックスの製造方法。

請求項（抜粋）：

オルガノシロキサン、シロキサン系架橋剤及びシロキサン系グラフト交叉剤から成るオルガノシロキサン系混合物、乳化剤及び水からなる混合物を予備攪拌して乳化させたラテックスを、温度60°C以上の酸水溶液に対して、滴下終了時のオルガノシロキサン系混合物/(酸+乳化剤)の重量比が100/2〜12となるように毎分5重量部以下の速度で滴下させて重合することによる、数平均粒子径が0.1μm以下でかつ粒子径の標準偏差が0.07以下であるポリオルガノシロキサンラテックスの製造方法。

IPC (3件)：

C08G 77/04 NUB ,  C08L 83/04 LRS ,  C09D183/04 PMS