特許
J-GLOBAL ID：200903016997371568
形状検出方法およびその装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 長七 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-289153
公開番号（公開出願番号）：特開平6-137826
出願日： 1992年10月27日
公開日（公表日）： 1994年05月20日
要約：
【要約】【目的】2次反射の影響を受けず、且つ高分解能で高精度な形状検出を可能とする。【構成】異なるパターンで変調された複数の光ビームを被検出物体Cの同一点に略同一方向から投射する。各々の投射ビームの被検出物体Cによる反射光を位置検出器1に結像させる。位置検出器1の出力から各投射ビームの反射光の強度比を求め、2次反射による位置検出器の出力成分を相殺して、2次反射の影響を除去する。また、光ビームにパターンを持たせることにより、投射スポット内の位置を求めることを可能とし、高分解能で被検出物体の形状を検出することを可能とする。さらに、高分解能での被検出物体の形状の検出及び2次反射の影響の除去により、高精度の形状検出を可能とする。
請求項（抜粋）：
光ビームを被検出物体に投射し、その反射光を投射方向とは異なる方向から観測して物体の立体形状を検出する形状検出方法において、異なるパターンで変調された複数の光ビームを被検出物体の同一点に略同一方向から投射し、各々の投射ビームの被検出物体による反射光を位置検出器に結像させ、その位置検出器の出力から各投射ビームの反射光の強度比を求め、基準面に対する強度比との変化分から投射スポット内に位置を求め、この位置と反射光の位置検出器への入射角度から基準面に対する高さ変位を求めて成ることを特徴とする形状検出方法。
IPC (2件)：
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