特許
J-GLOBAL ID：200903017005078127
基板の洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-095540
公開番号（公開出願番号）：特開平6-291102
出願日： 1993年03月30日
公開日（公表日）： 1994年10月18日
要約：
【要約】【目的】 ウエハの表面と裏面とに対して異なる洗浄処理を行うことができ、しかもウエハの着脱時に洗浄槽内から洗浄液を排出する必要がないようにする。【構成】 洗浄槽10を隔壁13により2つの独立洗浄槽11及び12に仕切り、隔壁13にウエハ1を保持可能な開口部14を設け、開口部14を開閉する移動自在のシャッター18及び19を設ける。洗浄液供給手段25及び26により噴射ノズル21及び22から洗浄液27及び28を供給する。シャッター18及び19により開口部14を閉塞してウエハ1を開口部14部分に保持させた後、シャッター18及び19により開口部14を開放してウエハ1の表面1a及び裏面1bを洗浄液27及び28により洗浄する。ウエハ1の表面1a及び裏面1bが分離して洗浄され、ウエハ1の着脱時には洗浄液27及び28の混合が防止される。
請求項（抜粋）：
洗浄槽と、この洗浄槽を2つの独立洗浄槽に仕切る隔壁と、前記各独立洗浄槽内にそれぞれ洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、基板の外形に対応させて前記隔壁に設けられた開口部と、この開口部の周囲において前記基板の外周部を保持する基板保持手段と、前記開口部を液密状態で開閉するシャッターとを具備し、前記シャッターにより前記開口部を閉塞した状態で前記基板を前記基板保持手段により前記開口部に保持させた後、前記シャッターにより前記開口部を開放して前記基板の両面をそれぞれ前記各独立洗浄槽内の洗浄液により洗浄するように構成した基板の洗浄装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B08B 3/04
