特許

J-GLOBAL ID：200903017011894050

基板端縁洗浄装置

発明者： 木▲崎▼ 幸治
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-112034
公開番号（公開出願番号）：特開平7-297121
出願日： 1994年04月26日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：

【要約】【目的】 溶剤のぼた落ち等を防止して、基板端縁の不要薄膜を良好に溶解除去できる基板端縁洗浄装置を提供する。【構成】 基板端縁に向けて溶剤を吐出して、基板端縁の不要薄膜を溶解除去する上部ノズル47aの溶剤貯溜部51には、気体を排出する気体排出口55が設けられ、この気体排出口55に気体排出管56の一端が連通接続されている。気体排出管56の他端は開閉可能な電磁弁V6を介して配管57に接続されている。電磁弁V6を開状態にして加圧容器から溶剤貯溜部51へ溶剤を供給することにより、溶剤貯溜部51内に溜まっているエアーを抜くように構成されている。

請求項（抜粋）：

薄膜が形成された基板の端縁に溶剤を吐出して前記基板の端縁の不要薄膜を溶解除去する基板端縁洗浄装置において、供給された溶剤を貯溜する溶剤貯溜部に連通接続され、前記基板端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出する複数個の溶剤吐出口が形成された溶剤吐出手段を備え、前記溶剤貯溜部に、気体を排出する開閉可能な気体排出口を設けたことを特徴とする基板端縁洗浄装置。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  B05B 1/14 ,  B05C 5/00 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/306

FI (2件)：

H01L 21/30 577 ,  H01L 21/306 R