特許

J-GLOBAL ID：200903017012763390

縦型炉

発明者： 保坂 英二 ,  開発 秀樹 ,  狩野 利一
出願人/特許権者： 国際電気株式会社
代理人 (1件)： 三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-023734
公開番号（公開出願番号）：特開平6-216056
出願日： 1993年01月19日
公開日（公表日）： 1994年08月05日
要約：

【要約】【目的】半導体製造装置の縦型炉に於いて、急冷時に反応管上部での急冷特性を改善し、降温時に炉の上下で降温特性に差が起きにくい様にする。【構成】反応管1と該反応管を囲繞するヒータ3を有し、該ヒータのコイル状発熱体11を構成する素線を中空とし、該発熱体にガス吹出し孔12を素線に沿って適宜な間隔で穿設し、又該発熱体にガス冷却源を接続しヒータ内面全域から冷却ガスの流入をし、或は発熱体の複数箇所から冷却ガスを流入させ、流入する冷却ガス毎に流入状態を調整する。

請求項（抜粋）：

反応管と該反応管を囲繞するヒータを有し、該ヒータのコイル状発熱体を構成する素線を中空とし、該発熱体にガス吹出し孔を素線に沿って適宜な間隔で穿設し、又該発熱体にガス冷却源を接続したことを特徴とする縦型炉。