特許
J-GLOBAL ID：200903017013360281

基板搬送装置およびこれを備える真空処理装置

発明者：
田口 竜大

田口 竜大 について


出願人/特許権者：
株式会社島津製作所

株式会社島津製作所 について


代理人 (1件)： 永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-283427
公開番号（公開出願番号）：特開2006-096498
出願日： 2004年09月29日
公開日（公表日）： 2006年04月13日
要約：
【課題】 搬送動作が単純であり、短時間で搬送態勢に入ることができる基板搬送装置を提供すること。【解決手段】 真空処理装置100は、真空予備加熱室10とプラズマ処理室20とが連結されており、真空予備加熱室10内には、基板搬送装置11,13が上下2段に配置され、プラズマ処理室20内には、基板搬送装置21が配置されている。基板搬送装置11,13,21は、それぞれ揺動軸T1,T2,T3廻りに揺動し、水平位置と傾斜位置をとる。被処理基板を基板搬送装置11から基板搬送装置21へ移送するときは、基板搬送装置11,21のそれぞれの搬送面を搬送ラインL2に一致させて搬送する。また、被処理基板を基板搬送装置21から基板搬送装置13へ移送するときは、基板搬送装置13,21のそれぞれの搬送面を搬送ラインL3に一致させて搬送する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
被処理基板または前記被処理基板を保持する基板ホルダーを搬送面で保持しながら搬送する搬送機構と、 前記搬送面を水平姿勢と該水平姿勢に対して所定の傾斜角度をもつ傾斜姿勢とに切り換える傾斜切換え機構とを備え、 前記搬送機構は、前記搬送面を水平姿勢または傾斜姿勢にした状態で前記被処理基板または前記基板ホルダーを搬送することを特徴とする基板搬送装置。
IPC (7件)：
B65G 49/06 ,  B65G 47/52 ,  B65G 49/00 ,  C23C 16/44 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/677 ,  H01L 21/306
FI (7件)：
B65G49/06 Z ,  B65G47/52 B ,  B65G49/00 A ,  C23C16/44 F ,  C23F4/00 A ,  H01L21/68 A ,  H01L21/302 101G
Fターム (29件)：
3F044AA08 ,  3F044AA13 ,  3F044AB24 ,  3F044BA01 ,  3F044CD08 ,  4K030FA01 ,  4K030GA12 ,  4K057DD01 ,  4K057DM03 ,  4K057DM36 ,  4K057DM39 ,  4K057DN01 ,  5F004BB26 ,  5F004BC05 ,  5F004BC06 ,  5F004BD04 ,  5F004BD05 ,  5F004CA04 ,  5F004CA05 ,  5F031CA05 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031FA18 ,  5F031GA53 ,  5F031GA56 ,  5F031NA05 ,  5F031NA07 ,  5F031PA02
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • ロードロック式真空装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-053185   出願人：株式会社島津製作所
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-315675   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
審査官引用 (1件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-315675   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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