特許
J-GLOBAL ID:200903017039298126

ガス噴射ヘッド

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡邉 勇 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-313752
公開番号(公開出願番号):特開2000-144432
出願日: 1998年11月04日
公開日(公表日): 2000年05月26日
要約:
【要約】【課題】 濃度や成分の均一な混合ガスを早期反応を防止しつつ安定した状態で基板に向けて均一に噴射することができるガス噴射ヘッドを提供する。【解決手段】 少なくとも2種の反応ガスを個別に収容する少なくとも2つのガス空間70,72を形成する噴射ヘッド66本体と、前記噴射ヘッド本体の下面に配置された複数のガス噴射孔78と、前記ガス噴射孔にそれぞれ配置され、前記少なくとも2つのガス空間から前記少なくとも2種の反応ガスを個別に導入して噴射する同軸多流体ノズルとを有する。
請求項(抜粋):
少なくとも2種の反応ガスを個別に収容する少なくとも2つのガス空間を形成する噴射ヘッド本体と、前記噴射ヘッド本体の下面に配置された複数のガス噴射孔と、前記ガス噴射孔にそれぞれ配置され、前記少なくとも2つのガス空間から前記少なくとも2種の反応ガスを個別に導入して噴射する同軸多流体ノズルとを有することを特徴とするガス噴射ヘッド。
IPC (5件):
C23C 16/455 ,  B01F 3/02 ,  B01F 5/00 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/316
FI (5件):
C23C 16/44 D ,  B01F 3/02 ,  B01F 5/00 Z ,  H01L 21/31 B ,  H01L 21/316 X
Fターム (35件):
4G035AB02 ,  4G035AC48 ,  4G035AE13 ,  4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030BA01 ,  4K030BA42 ,  4K030BA46 ,  4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  4K030GA02 ,  4K030KA25 ,  4K030LA01 ,  4K030LA15 ,  5F045AA03 ,  5F045AB31 ,  5F045AC07 ,  5F045AC11 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EF05 ,  5F045EF08 ,  5F045EM10 ,  5F045EN04 ,  5F058BA20 ,  5F058BB06 ,  5F058BC03 ,  5F058BF03 ,  5F058BF27 ,  5F058BF29 ,  5F058BG01 ,  5F058BG02 ,  5F058BG03 ,  5F058BG04 ,  5F058BJ01

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