特許

J-GLOBAL ID：200903017044071067

チタン酸鉛膜の形成方法及び金属チタン基材上にチタン酸鉛膜を形成してなる複合体

発明者： 梶芳 浩二 ,  浜地 幸生 ,  坂部 行雄
出願人/特許権者： 株式会社村田製作所
代理人 (1件)： 西澤 均
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-247041
公開番号（公開出願番号）：特開平5-058634
出願日： 1991年08月30日
公開日（公表日）： 1993年03月09日
要約：

【要約】【目的】 後処理工程を必要とすることなく、任意の形状の基材上に、低温で均一な正方晶のチタン酸鉛(PbTiO3)膜を形成する。【構成】 金属チタン(Ti)基材を、0.1mol/l 以上の鉛(Pb)イオンを含むpH12以上のアルカリ性水溶液中に浸漬し、200°C以上の温度条件下において所定時間反応させることにより、金属チタン(Ti)基材の表面にチタン酸鉛(PbTiO3)膜を生成させる。

請求項（抜粋）：

金属チタン(Ti)基材を、0.1mol/l 以上の鉛(Pb)イオンを含むpH12以上のアルカリ性水溶液中に浸漬し、200°C以上の温度条件下において所定時間反応させることにより、前記金属チタン(Ti)基材の表面にチタン酸鉛(PbTiO3)膜を生成させることを特徴とするチタン酸鉛膜の形成方法。

IPC (4件)：

C01G 23/00 ,  C23C 22/64 ,  H01B 3/00 ,  H01B 3/12 302

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-181205
  
• 特開昭59-139617
  
• 特開昭63-144115
  
• 特開平3-218926