特許

J-GLOBAL ID：200903017054206130

試料処理装置および試料処理方法、フォトマスクの製造方法

発明者： 池田 弘行
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 外川 英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-021121
公開番号（公開出願番号）：特開2001-208694
出願日： 2000年01月31日
公開日（公表日）： 2001年08月03日
要約：

【要約】【課題】 光量調整フィルタを必要としない試料処理装置、試料処理方法を提供すること。また、スループットの高いフォトマスクの製造方法を提供すること。【解決手段】 試料の光像の倍率に応じて、TDI回路において加算するライン数を決定する手段を備える。

請求項（抜粋）：

試料に光を照射するための照射手段と、前記光の照射により得られる前記試料からの光像の倍率を、調整設定するための変倍手段と、前記変倍手段により変倍された光像を受光し、電気信号に変換する光電変換素子を、複数個備えた光電変換手段と、前記変倍手段により変倍された光像と、前記光電変換手段との相対位置を移動させるための移動手段と、前記移動手段による光像の移動と同期して、前記複数の光電変換素子のうち、所定の個数の光電変換素子が変換した電気信号の加算を行うことにより、前記光像の同一の部位に対応する電気信号を加算して測定データを得るためのTDI処理手段と、前記変倍手段における倍率に基づいて、前記TDI処理手段における前記所定の個数を決定する決定手段と、前記測定データを用いて前記試料に所定の処理を行うための処理手段と、を備えることを特徴とする試料処理装置。

IPC (5件)：

G01N 21/88 ,  G01B 11/30 ,  G01N 21/956 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/66

FI (5件)：

G01N 21/88 J ,  G01B 11/30 A ,  G01N 21/956 A ,  G03F 1/08 S ,  H01L 21/66 J

Fターム (46件)：

2F065AA49 ,  2F065BB02 ,  2F065CC18 ,  2F065DD06 ,  2F065EE05 ,  2F065FF02 ,  2F065FF67 ,  2F065GG05 ,  2F065HH13 ,  2F065HH15 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065PP01 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ33 ,  2F065RR02 ,  2F065RR08 ,  2F065SS02 ,  2F065SS13 ,  2G051AA56 ,  2G051AB07 ,  2G051BA10 ,  2G051CA01 ,  2G051CA03 ,  2G051CB02 ,  2G051CC09 ,  2G051DA07 ,  2G051EA12 ,  2H095BD02 ,  2H095BD04 ,  2H095BD15 ,  2H095BD27 ,  4M106AA09 ,  4M106BA05 ,  4M106CA39 ,  4M106DB02 ,  4M106DB04 ,  4M106DB08 ,  4M106DB12 ,  4M106DB19 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ23