特許
J-GLOBAL ID：200903017055418760
プラズマ処理装置及び該装置のクリーニング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井内 龍二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-071573
公開番号（公開出願番号）：特開平5-275353
出願日： 1992年03月27日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：
【要約】【目的】 プラズマを絶縁防着板19近傍に集中して発生させることができ、前記絶縁防着板19に付着した生成物を効率よく除去することができるプラズマ処理装置を提供すること。【構成】 プラズマ処理室10に試料台16が配設されたプラズマ処理装置において、プラズマ処理室内壁17近傍に絶縁防着板19が配設され、絶縁防着板19とプラズマ処理室内壁17との間に高周波印加用電極15が介装されているプラズマ処理装置。
請求項（抜粋）：
プラズマ処理室に試料台が配設され、プラズマにより試料の処理を行なうプラズマ処理装置において、反応生成物が前記プラズマ処理室の内壁に付着することを防ぐために前記プラズマ処理室内壁近傍に絶縁物で形成された防着板が配設され、該防着板と前記プラズマ処理室の内壁との間に高周波印加用電極が介装されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/205
, H01L 21/302
, H01L 21/304 341
, H05H 1/46
