特許
J-GLOBAL ID：200903017086054057
浸漬塗布方法および浸漬塗布装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中島 淳 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-208348
公開番号（公開出願番号）：特開平10-043652
出願日： 1996年08月07日
公開日（公表日）： 1998年02月17日
要約：
【要約】【課題】 電子写真感光体等の基体の製造に際して、液ダレによる膜厚の不均一さと塗液の劣化を防止し、安定した浸漬塗布を行うための浸漬塗布方法および浸漬塗布装置の提供。【解決手段】 塗布液槽3内の塗布液1中に電子写真感光体等の円筒状基体2を浸漬し、この円筒状基体2を引き上げることによって円筒状基体2の外周面に塗布液を塗布する。この場合、塗布液槽3から常時、塗布液1をオーバーフローさせて循環可能となっている。塗布液槽3の塗布液面上に設けられた円筒状基体2が通過可能な開口部7を有する蓋8を配置する。この蓋8は、垂直方向に間隔において複数配置したプレートを有し、開口部7を通して円筒状基体2を塗布液1中に浸漬し、円筒状基体2を引き上げる。
請求項（抜粋）：
塗布液内の塗布液中に円筒状基体を浸漬し、前記円筒状基体を引き上げることによって円筒状基体の外周面に塗布液を塗布する浸漬塗布方法において、前記塗布液槽から常時塗布液をオーバーフローさせ、前記塗布液槽の塗布液面上に設けられ円筒状基体が通過可能な開口部を有し垂直方向に間隔において複数配置したプレートを有する蓋の開口部を通して前記円筒状基体を塗布液中に浸漬し、前記円筒状基体を引き上げることを特徴とする浸漬塗布方法。
IPC (2件)：
B05C 3/02
, G03G 5/05 102
B05C 3/02
, G03G 5/05 102
