特許

J-GLOBAL ID：200903017092162279

スチレン及びプロピレンオエキシドの製造方法

発明者： フアン・デル・スライス,ヤコブス,ヨハネス
出願人/特許権者： シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー
代理人 (1件)： 川口 義雄 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-561143
公開番号（公開出願番号）：特表2002-521351
出願日： 1999年07月15日
公開日（公表日）： 2002年07月16日
要約：

【要約】(a)エテンとベンゼンを反応させてエチルベンゼンを形成するステップ、(b)エチルベンゼンを酸素または空気と反応させてエチルベンゼンヒドロペルオキシドを形成するステップ、(c)得られたエチルベンゼンヒドロペルオキシドの少なくとも一部をエポキシ化触媒の存在下でプロペンと反応させてプロピレンオキシド及び1-フェニルエタノールを形成するステップ、及び(d)得られた1-フェニルエタノールの少なくとも一部を適当な脱水触媒の存在下でスチレンに脱水するステップを含むスチレン及びプロピレンオキシドの同時製造方法であって、ステップ(a)で使用するエテン及びステップ(c)で使用するプロペンの少なくとも一部は流体接触分解ユニットより提供されることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

(a)エテンとベンゼンを反応させてエチルベンゼンを形成するステップ、(b)エチルベンゼンを酸素または空気と反応させてエチルベンゼンヒドロペルオキシドを形成するステップ、(c)得られたエチルベンゼンヒドロペルオキシドの少なくとも一部をエポキシ化触媒の存在下でプロペンと反応させてプロピレンオキシド及び1-フェニルエタノールを形成するステップ、及び(d)得られた1-フェニルエタノールの少なくとも一部を適当な脱水触媒の存在下でスチレンに脱水するステップを含むスチレン及びプロピレンオキシドの同時製造方法であって、ステップ(a)で使用するエテン及びステップ(c)で使用するプロペンの少なくとも一部は流体接触分解ユニットより提供されることを特徴とする前記方法。

IPC (5件)：

C07C 1/24 ,  C07C 15/46 ,  C07D301/19 ,  C07D303/04 ,  C07B 61/00 300

FI (5件)：

C07C 1/24 ,  C07C 15/46 ,  C07D301/19 ,  C07D303/04 ,  C07B 61/00 300

Fターム (17件)：

4C048AA01 ,  4C048BB02 ,  4C048CC01 ,  4C048UU03 ,  4C048XX02 ,  4H006AA02 ,  4H006AC13 ,  4H006AC21 ,  4H006AC40 ,  4H006AC41 ,  4H006BA60 ,  4H006BD70 ,  4H006BE30 ,  4H006FC52 ,  4H006FE11 ,  4H039CA21 ,  4H039CG10