特許
J-GLOBAL ID:200903017094288628

細孔を有する構造体の製造方法及び細孔を有する構造体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡辺 徳廣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-201366
公開番号(公開出願番号):特開2002-020892
出願日: 2000年07月03日
公開日(公表日): 2002年01月23日
要約:
【要約】【課題】 陽極酸化により作製される細孔の配列、間隔、位置、方向、形状等を制御することが可能な細孔を有する構造体の製造方法を提供する。【解決手段】 基板上に絶縁層と被陽極酸化層が積層された積層膜を、該積層膜の端から陽極酸化させることにより該基板表面に対し、実質的に平行な軸を有する細孔配列を該基板上に作製する方法において、該被陽極酸化層がアルミニウムを主成分とする膜であり、且つ該被陽極酸化層が該絶縁層に挟まれており、且つ作製される細孔間隔の凹凸配列パターンが該絶縁層の少なくとも1層に細孔方向に施されている細孔を有する構造体の製造方法。
請求項(抜粋):
基板上に絶縁層と被陽極酸化層が積層された積層膜を、該積層膜の端から陽極酸化させることにより該基板表面に対し、実質的に平行な軸を有する細孔配列を該基板上に作製する方法において、該被陽極酸化層がアルミニウムを主成分とする膜であり、且つ該被陽極酸化層が該絶縁層に挟まれており、且つ作製される細孔間隔の凹凸配列パターンが該絶縁層の少なくとも1層に細孔方向に施されていることを特徴とする細孔を有する構造体の製造方法。
IPC (4件):
C25D 11/04 302 ,  C25D 11/20 302 ,  H01L 21/316 ,  H01L 29/06
FI (4件):
C25D 11/04 302 ,  C25D 11/20 302 ,  H01L 21/316 T ,  H01L 29/06
Fターム (3件):
5F058BC03 ,  5F058BF70 ,  5F058BJ10
引用特許:
審査官引用 (4件)
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